每经AI快讯，3月17日，久日新材在互动渠道表明，子公司久日半导体已完结多款i-线半导体光刻胶配方的研制，测验性能指标彻底可与国内市场同类进口产品比美，现正在进行要点客户的送样验证作业和中试出产线建造。到现在，公司的光刻胶专用光敏剂PAC已向七家下流企业完结送样。公司光刻胶专用光敏剂PAC的出产规模为年产600吨。公司的光刻胶是从源头开端做，包含光刻胶的要害质料光敏剂PAC，以及光敏剂PAC的要害质料羟基二苯甲酮（HBP）和磺酰氯（NAC）的制备。

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  久日新材：现在送样的企业包含面板类光刻胶出产企业与半导体g/i线光刻胶出产企业

  久日新材：公司在半导体电子化学资料方面还有其他项目储藏，如SOD资料、涂膜资料等

  久日新材：公司在光刻胶方面现已有授权创造专利1项、在审创造请求1项，并储藏了部分没有请求专利的技能

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